三靶磁控溅射仪

可制备多种薄膜，应用广泛

体积小，操作简便

真空腔室、真空泵组整机模块化设计 ，控制电源为分体式设计，可根据用户实际需要调整购买需求。

可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪，购买前请联系我公司销售。

仪器中安装有3个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层（图一）

其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材（图二）

另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材

靶材尺寸要求：直径为50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）

可以单独订购RF连接线作为备用（图二）

设备包含一台水冷机，用于靶头冷却（图三 ）

载样台尺寸：φ140mm（可放 置4"的基底）

载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调）

载样台可加热温度为500℃

l此设备安装有三个溅射电源，根据客户需求可选（以下两款射频电源可任意组合使用）

真空腔体：φ300 mm×300 mm H，采用不锈钢制作

观察窗口：Φ100 mm

腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易

仪器内部安装有2个质量流量计，量程为：0-100sccm

气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作

此系统运行需要Ar气，并且气瓶上安装有减压阀（设备中不包含）

配有一套GZK-103D分子泵系统（德国制作）

标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar（仅供参考，详情请点击 ）

一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装 在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å  

LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据

L1300mm× W 660mm× H 1200mm

净重 ：160 kg

一年保修，终身技术支持。

特别提示：1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

点击查看售后服务承诺书。

此设备为DIY设备，参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通

为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N）

在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净

要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面

超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥 （4）真空烘箱除去水分。

等离子清洗（详细参数点击下面图片）：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。

制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。

注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体

气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用

溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶